Optimizer

Descrizione

NANOLEX OPTIMIZER

Nanolex Optimizer è un prodotto totalmente nuovo, unico e rivoluzionario nel mercato del detailing.

Optimizer è stato progettato per garantirvi la resa ottimale di altri prodotti su su perfici problematiche. La sua funzione principale è quella di estendere i tempi di lavoro dei polish e coadiuvare i protettivi nanotecnologici nella loro applicazione.

Alcuni polish o protettivi nanotecnologici sono più viscosi (a livello molecolare) di altri e più creano spessore, maggiore è lo sforzo che si deve applicare per stendere questi prodotti rischiando così di graffiare o rovinare finiture delicate.

Nanolex Optimizer risolve il problema della viscosità di questi prodotti mescolandosi con essi ed ammorbidendo i loro ingredienti che causano quell’effetto colla o effetto penetrazione nel trasparente così da rimuovere o stendere il prodotto più facilmente senza graffiare la superficie.

MODO D’USO:

IN LUCIDATURA:

Optimizer può essere usato per prolungare i tempi di lavoro quando i lubrificanti nei polish tendono ad asciugarsi prima che gli abrasivi decrescenti si rompano completamente.

In questo caso Optimizer viene spruzzato sul tampone da utilizzare dopo aver aggiunto il polish sul tampone così da farlo lavorare al meglio aggiungendo lubrificazione.

IN APPLICAZIONE PROTETTIVI NANOTECNOLOGICI:

Quando si applicano protettivi nanotecnologici in condizioni difficili di temperatura o umidità o quando si applicano nanotecnologici con solventi aggressivi o su superfici molto delicate, Optimizer agisce come “agente di diluizione” consentendo di stendere il protettivo per un periodo di tempo più lungo. Sui fastidiosi trasparenti che “bevono” i nanotecnologici, Optimizer si interfaccia in modo che il ceramico possa essere distribuito in modo più uniforme, lavorando al massimo delle sue caratteristiche e lasciando una finitura migliore.

In questa fase Optimizer può essere applicato su un panno, steso sul pannello sul quale si sta applicando il protettivo e buffato. Immediatamente dopo si può procedere alla stesura.

CARATTERISTICHE:

– Riduce la viscosità dei polish e protettivi nanotecnologici.

– Riduce la resistenza per una migliore stesura e rimozione.

– Riduce il rischio di graffiare creando swirl o marring su superfici delicate.

– Applicare il polish e spruzzare Optimizer per una stesura migliore.

– Sviluppato e progettato per esser usato su tutti i trattamenti nanotecnologici simili a Si3D o polish.